| その他オプション機器 |
概 要
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真空蒸着装置1
日立製:HUS-5CB
用途:電子顕微鏡試料で導電性のないもの
に、金属やカーボンを試料表面に真
空蒸着しサンプルに導電性を持たせる。
設置場所:6号館1階 EPMA室
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真空蒸着装置2
日本電子製:JEE-4X
用途:電子顕微鏡試料で導電性のないもの
に、金属やカーボンを試料表面に真
空蒸着しサンプルに導電性を持たせる。
設置場所:6号館1階 IMA室
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真空蒸着装置3
日本電子製:JEE-400
用途:電子顕微鏡試料で導電性のないもの
に、金属やカーボンを試料表面に真
空蒸着しサンプルに導電性を持たせる。
設置場所:6号館1階 EPMA室
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ウルトラミクロトーム
ライカ製:REICHERA ULTRACUT S
用途:生体試料をを薄くスライスし、透過
電子顕微鏡で見やすくする。
設置場所:13号館1階 横田研究室
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スパッタリング装置
日本電子製:JUC-5000
用途:電子顕微鏡試料で導電性のないもの
に、金属を試料表面にスパッタしサ
ンプルに導電性を持たせる。
設置場所:20号館2階 HR-SEM室
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臨界点乾燥装置
日本電子製:JFD-300
用途:電子顕微鏡で導電性のない生体試料
を臨界点乾燥法により、試料の変形
なしに観察できるようにする。
設置場所:20号館2階 HR-SEM室
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イオンスパッター装置
日立製 E-1010
設置場所:20号館2階 HR-SEM室
用途:SEM像観察のチャージング防止
電極作成、金マスキングなど
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