その他オプション機器
概 要
oth-epma
真空蒸着装置1

 日立製:HUS-5CB
 用途:電子顕微鏡試料で導電性のないもの
    に、金属やカーボンを試料表面に真
    空蒸着しサンプルに導電性を持たせる。
 設置場所:6号館1階 EPMA室

oth-tem200 真空蒸着装置2

 日本電子製:JEE-4X
 用途:電子顕微鏡試料で導電性のないもの
    に、金属やカーボンを試料表面に真
    空蒸着しサンプルに導電性を持たせる。
 設置場所:6号館1階 IMA室

oth-cma-sem 真空蒸着装置3

 日本電子製:JEE-400
 用途:電子顕微鏡試料で導電性のないもの
    に、金属やカーボンを試料表面に真
    空蒸着しサンプルに導電性を持たせる。
 設置場所:6号館1階 EPMA室

oth-hr-sem1 ウルトラミクロトーム

 ライカ製:REICHERA ULTRACUT S
 用途:生体試料をを薄くスライスし、透過
    電子顕微鏡で見やすくする。
 設置場所:13号館1階 横田研究室

oth-hr-sem1 スパッタリング装置

 日本電子製:JUC-5000
 用途:電子顕微鏡試料で導電性のないもの
    に、金属を試料表面にスパッタしサ
    ンプルに導電性を持たせる。
 設置場所:20号館2階 HR-SEM室

oth-hr-sem2 臨界点乾燥装置

 日本電子製:JFD-300
 用途:電子顕微鏡で導電性のない生体試料
    を臨界点乾燥法により、試料の変形
    なしに観察できるようにする。
 設置場所:20号館2階 HR-SEM室

イオンスパッター装置
 日立製 E-1010

 設置場所:20号館2階 HR-SEM室

 用途:SEM像観察のチャージング防止
     電極作成、金マスキングなど