電子プローブマイクロアナライザ (WDS)
WDS 電子プローブマイクロアナライザ
日本電子 JXA-8230
性能：元素分析範囲 5Ｂ～92U
加速電圧 0.2～30kV
最大倍率 30万倍
二次電子分解能 6nm
凹凸像、組成像
用途：金属材料、半導体、鉱物、セラミックスなどの表面元素分析、観察
試料：固体、半導体、金属材料、鉱物、セラミック、ガラスなど
説明：電子顕微鏡像(SEM)を観察しながら微少部(μmオーダー)の元素分析ができる。試料からの特性X線や映像信号（二次電子、反射電子）などの情報を元に二次濃度分布カラー画像（面分析）として表示可能。エネルギー分散型分光器(EDS)を用いた定性分析や半定量分析は、簡便で結果をリアルタイムに得られる。 位置再現性がよいので分析位置をプリセットし分析条件を決めれば、多数の分析操作をワークステーションから自動で行い大量の定量分析を高速で実行し分析データを収集・処理できる。
微少部走査型Ｘ線分析装置 (EPMA)
EPMA（CMA-SEM） コンバインマイクロアナライザ
日本電子 JXA-8900
性能：元素分析範囲 5Ｂ～92U
加速電圧 0.2～40kV
最大倍率 30万倍
二次電子分解能 6nm
凹凸像、組成像
用途：金属材料、半導体、鉱物、セラミックスなどの表面元素分析、観察
試料：固体、半導体、金属材料、鉱物、セラミック、ガラスなど
説明：電子顕微鏡像(SEM)を観察しながら微少部(μmオーダー)の元素分析ができる。試料からの特性X線や映像信号（二次電子、反射電子）などの情報を元に二次濃度分布カラー画像（面分析）として表示可能。エネルギー分散型分光器(EDS)を用いた定性分析や半定量分析は、簡便で結果をリアルタイムに得られる。 位置再現性がよいので分析位置をプリセットし分析条件を決めれば、多数の分析操作をワークステーションから自動で行い大量の定量分析を高速で実行し分析データを収集・処理できる。
走査型電子顕微鏡（SEM)
日本電子社製 JSM-6490型
倍率 ｘ5～300000
分解能 8nm
照射電流 ～1μA
エネルギー分散型元素分析装置付きの走査電子顕微鏡である。像観察については二次電子像と反射電子像の観察が可能であり、試料の大きさは、粉状のものから高さ＝8cm,直径17cmΦの機械部品まで観察できる。元素分析については、通常酸素より原子番号の大きな元素が対象となる。操作は比較的容易で、像観察については、初心者でも数回の講習を受ければ観察可能である。また、平滑面をもつ試料については、EBSD観察も可能である。
透過型電子顕微鏡 (TEM200)
TEM200 高分解能透過電子顕微鏡
日本電子社製 JEM-2000EX型
加速電圧75-200kV
点間分解能 0.26nm
格子分解能 0.14nm
2軸傾斜ホルダー ±20°
室温から1000℃まで試料温度可変
走査アタッチメントにより反射電子像、2次電子像、STEM像の観察可能
この電子顕微鏡は、最大加速電圧200kV，格子分解0.14 nmの透過型電子顕微鏡である。通常はLaB6フィラメントを装着している。 試料ホルダーに２軸、加熱、極低温用のものを準備してある。H8100に比べて若干像が暗いが、性能は全く劣らない。金属、金属酸化物を用いる研究、および学生実験などに利用されている。
透過型電子顕微鏡 (H8100)
２００ｋＶ 高分解能透過電子顕微鏡
日立製作所製 H-8100型
加速電圧75-200kV
点間分解能 0.26nm
格子分解能 0.14nm
2軸傾斜ホルダー ±30°
室温, 8K-1270Kまで試料温度可変
この電子顕微鏡は、最大加速電圧200kV，格子分解0.14 nmの透過型電子顕微鏡である。通常はタングステンフィラメントを装着しているが、従来の顕微鏡に装着した高エミッションLaB6フィラメントに劣らない像の明るさで試料観察できる。像の観察は、テレビモニターによって行うことも可能であり、ビデオテープに記録することができる。また試料位置が、倍率を変えても移動しないユーセントリックになっている。現在の利用者の研究テーマは、金属、金属酸化物超伝導体、層状物質、超微粒子、リン脂質集合体に関するものになっている。これらの研究用のため、試料ホルダーに２軸、加熱、極低温用のものなどを準備してある。
透過型電子顕微鏡 (FE-TEM200)
FE-TEM200 電界放射透過電子顕微鏡
日本電子製 JEM-2010F
仕様：分解能 0.18nm
加速電圧 80から200kV
最大倍率 100万倍
用途：金属材料、半導体、鉱物、セラミックスなどの構造解析、HREM観察像
TEM観察像、EDS分析、ナノビーム回析、収束電子回析
電界放射型ナノサイズ領域の組成分析・構造解析用高分解能電子顕微鏡
仕様：加速電圧 200kV、高分解能像観察、組成分析、収束電子回折、ナノ電子回折。
特徴：サーマル・エミッション電子銃から生じた電子線を用いているので、電子線の波長が一定に近い。このため、色収差が少なく、電子ビームを有効に絞ることが可能であり公称最小ビーム径０．５ナノ・メーター。高輝度が容易に得られる。このビームを用いることによりナノ・メーターサイズの領域に電子線を照射することができる。このため、ナノ・メーターサイズの領域の組成分析、収束電子回折、ナノ電子回折が可能である。また、高分解能電子顕微鏡像観察が可能であり、公称分解能は0.18nm。これらの機能により、結晶・非結晶材料の諸物性解明のために必要な情報を得ることができる。試料加熱・冷却ホルダーの使用により、高温度から低温度領域までの現象を電子顕微鏡内で再現させ、直接観察が可能である。
核磁気共鳴装置 (LA500 LA300)
NMR 核磁気共鳴装置
日本電子製 LNM-LA500およびLNM-LA300
基準磁場 11.74および7.05テスラ
基準周波数 1 H 500および300MHz
13 C 125および75MHz
有機化合物の構造解析
LA500 LA300
有機溶媒あるいは水に溶解した有機化合物の主に水素核、炭素核を測定することが可能なFT NMR装置。超伝導マグネット中に置かれたサンプルに電磁波を照射し、サンプルから発せられる電磁波をフーリエ変換することで、有機化合物に含まれる観測核の化学的な環境の違いを調べることができる。一次元NMRと二次元NMRの測定が可能。液体窒素を用いれば、低温測定もできる。また、強力なマグネットを持つことから通常は測定が困難なアセチレン炭素や４級炭素の測定も可能である。
核磁気共鳴装置 (ECS400)
NMR 核磁気共鳴装置
日本電子製 JNM-ECS400
基準磁場 9.4T
基準周波数 1H 400 MHz, 13C 100MHz
有機化合物の構造解析 一次元，二次元，多核（15N～31P）NMRの測定が可能物質を磁場の中に置き，ラジオ波領域の電磁波を照射すると，特定の波長が吸
収されるが，その様子を詳細に解析し，物質の構造に関する情報を得る。炭素
や水素の化学的環境や位置関係のみならず，分子の動的な情報も得られるため広く分子レベルでの研究において必須の機器となっている。構造を知りたい物質数ミリグラムを数ミリリットルの重水素化溶媒に溶かし，NMRサンプルチューブに入れて測定する．
単結晶Ｘ線回折装置 (VariMax with Saturn)
分解能可変Ｘ線集光ミラー＆CCDX線構造解析装置
理学製 VariMax with Saturn
《特徴》
１）微小結晶に威力を発揮するハイエンドシステム
２）世界最高レベルの高輝度Ｘ線を発生
人工多層膜ミラー（長尺タイプ）の採用により、高輝度で単色性の高いＸ線 を得ることが可能。極微小なサイズの単結晶を用いた構造解析に威力を発揮 します。
３）デュアルターゲット搭載（Ｘ線の線源をＭｏとＣｕで選択可能）
４）ゴニオメータ移動機構＆電動カメラ長可変機構
ゴニオメータの移動機構により、結晶サイズに応じてビーム径を変更可能。
結晶格子のサイズに応じて、電動でカメラ長を変えることが可能。
５）生態関連物質から無機材料、鉱物まで、非常に幅広い物質の構造決定に強力な力を発揮します。物質の単結晶 にＸ線照射して、その回折線の強度を測定することにより、結晶内の原子の配列（結晶構造）を決定することが できます。
Ｘ線光電子分析装置 (XPS)
島津 / KRATOS 製 光電子分光分析装置 AXIS-HS
加速電圧15KV 電流10mA
エネルギー範囲 0 ～ 1500eV
分析面積 30μmφ、60μmφ、120μmφ、Slot 、Survey
試料ステージ 最大15mmφ × 4mmt
デュアルアノート Mg/Al モノクロメータＸ線銃
極表面原子間の結合エネルギー
本Ｘ線光電子分光分析装置（ＸＰＳ）は固体表面の元素および化学結合状態を調べる表面分析機器である。高真空中で固体試料表面に軟Ｘ線（Al Ka またはMg Ka線）が照射されると、光電効果によって試料から光電子が放出される。試料表面の深い領域から放出される光電子は、表面に到るまでに非弾性散乱を受けて運動エネルギーを失い、スペクトルのバックグラウンドとなる。数nmの深さ領域から非弾性散乱を受けずに脱出してくる光電子のみがピークとして検出される。原子の内殻電子は原子ごとに固有な結合エネルギーを持っているので、ピークのエネルギーから元素の種類が、シグナル強度から元素の比率が調べられる。検出可能な元素はLiからUまでで、検出限界は元素によって異なるが、0.1％程度である。なお、Arイオンエッチングをすれば、最表面上の汚染物が除去された清浄面の元素分析やサブミクロンオーダーにおける深さ方向の元素分布の分析も可能である。
現在、「硫黄架橋クラスター錯体の電子状態」、「三元銅カルコゲナイド中の銅の電子状態」、「積層不整層状遷移金属ダイカルコゲナイドの合成」、「酸化チタンの表面状態の解析」、「アルミナ触媒化学発光と触媒表面状態の相関」、「窒化炭素の電子状態」などの研究に使われている。
生体構造解析 (vayager-biocad
Voyager-DE PRO, BioCAD 700E
ほとんどの生体高分子の分子量を測定できます。ペプチドのアミノ酸配列や糖の配列解析にも使える。
生体構造解析 (biacore)
BIACORE 2000
量子力学理論を応用した表面プラズモン共鳴技術を導入し、分子間相互作用をリアルタイムモニタ－できるシステム。抗体と抗原、DNAとタンパク質、酵素と基質など、さまざまな分子の間の関係を調べることが可能。
生体構造解析 (fmbio-lsa)
FMBIO LAS-1000
電気泳動で分離したタンパク質や核酸などを標識にして、直接見ることができる装置。RIを用いない全ての測定方法（蛍光、化学発光、可視検出）を使うことが可能。また、蛍光ラベルを用いたDNA配列解析も可能
生体構造解析 (facscalibur)
facscalibur
細胞の表面タンパク質や細胞内の核酸量、含まれる酵素の活性などを指標として、細胞の機能解析を行う装置です。また、特定の細胞を分取することもできる。
生体構造解析 (DNAシーケンサー)
DNAシーケンサー 3130
(Applied Biosystems社 Genetic Analyzer 3130 )
生命の情報を記録している遺伝子（DNA)の塩基配列を決定する装置です。解析するための微細なキャピラリが４本装着されており、同時に４サンプルの塩基 配列を決定することができます。１回の解析に９０分程度の時間がかかります。決定できる塩基の数は、最大で１サンプルにつき1000塩基程度まで可能です。遺伝子の研究には欠かせない装置です。
飛行時間型質量分析計 (TOF-ms)
TOF-ms 飛行時間型質量分析装置
ブルカー製 MALDI-TOF/TOF MS autoflex speed
【性能】
･レーザー：SmartbeamII搭載
（長寿命10億ショット・高周波数1000Hz）
･高解像度（10〜100μm）イメージングに対応
･4 GHz FlashDetector（分解能26,000以上）
･付属装置：TLC-MALDI，NALDI，バイオイメージング対応準備中
【概要】本装置には，プロテオミクスなどの生物に関連する研究
に必要なタンパク質のフラグメンテーション解析，合成高分子の分子量測定や末端解析，有機合成に有用なTLC-MSシステムが組み込まれており，非常に幅広い分野の研究をサポートできる．また，生体組織切片を直接分析し，分子量とその位置情報を得ることによるバイオマーカー検索や，薬剤を投与した組織を使用し，その動態を観測するイメージング分析も簡単に行うことができる．
また搭載しているレーザーは安定な長寿命・高周波数の最新式レーザーであり，これまで標準的に利用されてきた窒素型またはYAGレーザーと比べて，サンプル消費量の少ないマイルドな変動ビームプロファイルを実現できる．様々なマトリックスやサンプル調整法に対して優れたパフォーマンスを発揮することができ，高分解能のDetectorを搭載している。
質量分析計 (HR-MS)
HR-MAS 高分解能質量分析装置
日本電子製 JMS-700 MStation
分解能 60,000
感度 S/N 400以上 (EIモード：メチルステアレート200pg)
質量範囲 2,400ダルトン以上(加速電圧10KV)、 24,000(加速電圧1kV)
イオン化法 EI.CI.FAB法
サンプル導入法 ガスクロマトグラフ,
直接導入,LCmass,TLC
高分解能質量分析装置は，有機化合物の質量数を測定する分析装置である。イオン源でイオン化した試料を，磁場を利用してイオンの電荷に対する質量比(m/e)に応じて分離することにより，試料の質量数を直接求めることができる。この値から，分子量，元素組成など有機化合物の基本的な物性データを算出することができる。また，同時に観測されるフラグメントイオンの質量数から，分子の部分構造を明らかにすることもできる。質量分析装置は極微量(p molオーダー)のサンプルで質量数が測定できることから，微量に存在する環境汚染物質や生体内の代謝物などの同定にも利用されている。本装置では，EI, CI, FAB法などのイオン化法が適用できるため，幅広い有機化合物の分子量測定に利用できる。
質量分析計 (LC-mate)
LC-mate
日本電子製：JMS-LCmate
最高分解能：5,000（半値幅レセルピンm/z609 APCI）
感度APCI：レセルピン 50pg S/N 10以上
（m/z609 SIM R＝750 MeOH 100％）
質量範囲：～1,500amu（加速電圧2.5kV時）
バイオテクノロジーに代表されるペプチド、たんぱく質の分析や薬物・代謝物分析、農薬などの強極性化合物から非強極性化合物まで幅広い分析LC／MSは，ESI，APCIの方法でイオン化した化合物を質量／電荷数（n/z）に応じて分離したのち検出記録し，化合物の分子量およぴ構造に関する情報を得る分析法である。MSの前にLCをつけることでMIXのサンプルをカラムで分離しそれぞれの組成の分子量を分析することができます
また，UV検出器で検出された信号はMSデータ・システムに送られ，UVクロマトグラムとマスクロマトグラムを同時に表示して，データ処理を行なうことができます。
電子スピン共鳴装置 (ESR)
ESR 電子スピン共鳴装置
パルス電子スピン共鳴測定装置（日本電子） JES-PX2300
Xバンド連続波測定による検出感度 7×109 spin/G
Xバンドマイクロ波出力 0.0001-200 mW
最大磁場 1.3T 磁場設定分解能 2nT
オートチューニング 標準試料同時測定可
パルスESR測定における設定パルス数 16
パルスESR測定におけるパルス幅設定分解能 1ns
Qバンド測定 測定温度範囲 4.2K-200℃
磁場中に置かれた不対電子が、ゼーマンエネルギー分裂に相当するエネルギーのマイクロ波を吸収する（電子スピン共鳴）ことを利用して、物質中の不対電子を測定する装置である。不対電子のまわりに存在する、磁気モーメントをもつ原子核による超微細構造などを手がかりにして、ラジカルの種類を特定し、その量を測定できる。また、同様に結晶中の常磁性格子欠陥の構造を決めたり、それらが放射線によって生成することを利用して、試料の過去の被曝線量を計測して事故被曝線量を求めたり、自然放射線による被曝線量から地質学的、人類学的試料の年代を求めたりできる。
粉末試料の場合、標準の石英試料管に入れて測定するが、ゴニオメータ（一軸）による単結晶の測定、特殊セルを用いることによって水溶液の測定も可能である。
高感度磁化率測定装置 (MPMS)
MPMS 高感度磁化率測定装置
米国Quantum Design社製 MPMS XL5
印加磁場範囲 -50 kOeから+50 kOe
温度可変範囲 1.9 K～400 K （300 K～800 K 高温炉使用時）
相対感度： 2X10-7 emu (@50 kOe)； 最大測定値： ±5 emu
RSO測定，連続温度スイープ測定
ヘリウムガス再凝縮装置(EverCool)による自動液化運転
MPMSは，SQUID（量子干渉磁束計）と超伝導マグネットを組み合わせた万能型の磁気特性測定装置である．SQUIDを用いることで磁化（磁化率）や磁気ヒステリシス特性，それらの温度変化を極めて高感度に測定できる．印加磁場は超伝導マグネットを用いることで，最大±50 kOeまで可能である．この50 kOeという大きな磁場中でも， SQUIDを安定に動作させて微弱な磁化を測定できるのが本器の最大の特長である．試料の温度は，ヘリウムガスにより1.9 Kから400 Kの範囲で変えることができる．オプションの高温用オーブンを組み込めば，300 Kから800 Kの範囲でヘリウムガス雰囲気中での加熱測定が可能である．測定速度を向上させるRSO（試料振動型）測定と，温度を連続的に可変させるスイープ測定の組み合わせにより，1K/min程度の速度で安定に測定可能である．また，蒸発したヘリウムガスは自動的に液化されるため，最長2年間液体ヘリウムを補給することなしに連続運転でき，使用効率が大幅に向上している．
液体ヘリウム製造装置
高圧ガス製造所
規模
ヘリウム貯蔵量 3,977m３
処理能力 25067.8Nm３/day
説明：-269℃の液体ヘリウムは、極低温での物性研究や超伝導磁石を用いたＮＭＲなどの装置の寒剤として、学内で広く利用されています。この液体ヘリウムを製造しています。
カソードルミネッセンス測定装置
CL-SEM カソードルミネッセンスマイクロアナライザ
日本電子 JSM-5410CL
性能：加速電圧 0.5～30kV
最大倍率 20万倍
二次電子分解能 3.5nm
試料 : 金属材料、半導体、鉱物、セラミックスなど
説明 : サンプル表面の拡大写真および電子を照射することにより発生する蛍光を観察し原子の欠陥、不純物などを調べることができる。
デジタル現像装置
FDL5000
富士フイルム製
透過電子顕微鏡のイメージングプレート（ＩＰ）の現像とプリントアウトに利用します。
蛍光寿命測定装置
半導体励起Nd:YVO4レーザー(Spectra-Physics Millennia-V)
Ti:Sapphireレーザー(Spectra-Physics Tsunami 3960/50-M2S)
2倍波発生装置(Spectra-Physics 3980-6S)
回折格子制御装置(浜松 C5094)
ストリークカメラ(浜松 C4334)
パルスレーザー光（波長約４００ｎｍ）を照射し、試料からでる発光を励起波長から８００ｎｍの間の多波長（３５～１３０ｎｍの領域）で高速（２×１０－１２秒～１０－６秒毎）に測定し、測定データをコンピュータに転送する。発光強度の時間変化をコンピュータで解析することにより、サンプルの発光の半減期を求めることができる。スペクトルも同時に測定し、１０－９～１０－６秒オーダーのスペクトルの時間変化も得られる。発光強度の時間・波長依存性の３次元図も作成可能。また、単一指数関数でない減衰の場合でも、コンピュータで解析することにより反応速度定数などのパラメーターを得ることができる。例えば蛍光体から受容体へのエネルギーや電子の移動速度を求めることもできる。
日本電子製：JEE-400
用途：電子顕微鏡試料で導電性のないもの
に、金属やカーボンを試料表面に真
空蒸着しサンプルに導電性を持たせる。
設置場所：６号館１階 EPMA室
スパッタリング装置
日本電子製：JUC-5000
用途：電子顕微鏡試料で導電性のないもの
に、金属を試料表面にスパッタしサ
ンプルに導電性を持たせる。
設置場所：20号館2階 HR-SEM室
臨界点乾燥装置
日本電子製：JFD-300
用途：電子顕微鏡で導電性のない生体試料
を臨界点乾燥法により、試料の変形
なしに観察できるようにする。
設置場所：20号館2階 HR-SEM室
ウルトラミクロトーム
ライカ製：REICHERA ULTRACUT S
用途：生体試料をを薄くスライスし、透過
電子顕微鏡で見やすくする。
設置場所：20号館２階
故障中。
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