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機器紹介Instruments

全自動多目的X線回析装置

 概 要Outline

本装置は、従来の粉末試料の結晶構造分析のみならず、多様化する分析ニーズ(ナノ構造、残留応力、薄膜、組織配向分布等)にも適用できる全自動多目的X線回折装置である。粉末X線回折測定では、高出力のX線源と高感度の多次元半導体検出器を用いることで、従来の装置に比べて質の高い回折パターンを取得でき、高精度の結晶構造解析が可能である。また、本装置では、試料台に様々なアタッチメントを設置できる特徴を有しており、ナノ構造(小角散乱測定)や薄膜の膜厚・面内構造(薄膜X線回折・逆格子マッピング・in-plane・反射率の各測定)、構造材料の残留応力(応力測定)、金属複合材料の組織配向分布(極点測定)等の多様なニーズに対応したX線測定を行うことができる。加えて、測定オプションとして、粉末X線回折の高温測定や微小領域での回折測定も可能である。

 性 能Performane

名称(略称) 全自動多目的X線回析装置(SmartLab)
型番(メーカー) SmartLab (リガク)
X線源 回転対陰極型管球(PhotoMax、最大9kW)
検出器 多次元半導体検出器(HyPix-3000、0~2次元)
   
   
設置場所 A3号館2階④室
機器責任者 化学科 佐藤恭史(直086-256-9737 内3992)
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